18637977060
產品中心
詳細介紹
| 品牌 | 三特爐業 | 升溫速度（達到最高溫） | 90/min |
|---|---|---|---|
| 加熱方式 | 電阻式 | 控溫精度 | ±1℃ |
| 最高溫度 | 1200℃ | 價格區間 | 面議 |
| 儀器種類 | 管式爐 | 產地類別 | 國產 |
| 應用領域 | 綜合 |
商品描述
【產品名稱】1200℃-PECVD管式爐系統
【爐管尺寸】φ40--φ100mm
【加熱區】300mm/440mm
【額定溫度】1200℃
【控溫精度】±1℃
【應用領域】1200℃-PECVD管式爐系統（等離子增強化學氣相沉積系統）由管式爐、真空獲得、流量控制和射頻電源四大模塊組成， 本設備借助13.56Mhz的射頻輸出使含有薄膜組成原子的氣體電離，在真空腔體內形成等離子體，利用等離子的強化學活性，改善反應條件，使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應，從而實現薄膜材料生長的一種新的制備技術，最終得到基片上沉積出所期望的薄膜。
性能特點：
CVD管式爐系統由管式爐、真空獲得、流量控制和射頻電源
管式爐可選擇不同的管徑和恒溫區的長度，爐管兩端裝有高真空不銹鋼密封法蘭；
真空獲得系統可根據試驗要求選擇不同的真空泵，旋片式機械真空泵真空度≤5pa，分子泵真空機組真空度1×10-4pa；
氣路供氣系統可選擇3路浮子手動和3路自動質量流量系統
真空測量為數字復合真空機或皮拉尼真空計
等離子體放電選擇13.56Mhz的設備電源，功率輸出可選擇200W、300W和500W
管式爐可選擇單溫區300mm和440mm，也可選擇三溫區或多溫區進行溫度的梯度試驗
溫控器內置的RS485數字通信端口和USB適配器作為可選配置，可連接PC，用于系統的遠程控制和監視，還可以保存或導出測試結果。
產品符合歐盟CE標準。
產品咨詢
微信咨詢